光干渉リソグラフィにおける干渉定在波の「その場」観察に関する研究

• 資料種別: 記事
• タイトル: 光干渉リソグラフィにおける干渉定在波の「その場」観察に関する研究
• 巻次・部編番号: 2023; 0
• 著者・編者: 高廣 望; 清水 裕樹
• 著者標目: TAKAHIRO Nozomu; 高廣 望; SHIMIZU Yuki; 清水 裕樹
• 出版年月日等: 2023
• 出版年（W3CDTF）: 2023
• 並列タイトル等: In-situ evaluation of interference fringe patterns to be generated by interference lithography
• タイトル（掲載誌）: IIP情報・知能・精密機器部門講演会講演論文集; The Proceedings of the Conference on Information, Intelligence and Precision Equipment : IIP
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2023 0
• 掲載巻: 2023
• 掲載号: 0
• 掲載ページ: IIPA-6-1
• ISSN（掲載誌）: 2424-3140
• 著者別名: TAKAHIRO Nozomu; SHIMIZU Yuki
• 件名標目: Precision positioning; Scale grating; Micropattern fabrication; Metrology; Laser interference lithography
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1299/jsmeiip.2023.IIPA-6-1
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE; http://www.jstage.jst.go.jp

• 要約等: <p>In the non-orthogonal Lloyd’s mirror interferometer based on the laser interference lithography, the pitch of interference fringe pattern is contro...