文書・図像類

真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発

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真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発

資料種別
文書・図像類
著者
亀山, 晃弘
出版者
-
出版年
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資料形態
デジタル
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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デジタル

資料種別
文書・図像類
著者・編者
亀山, 晃弘
著者標目
亀山, 晃弘 カメヤマ, アキヒロ
並列タイトル等
The development of the element process technology for the new type LSI of the product layer by VUV-CVD
本文の言語コード
jpn
対象利用者
一般
一般注記
平成15年―平成17年度科学研究費補助金(基盤(B))研究成果報告書
記録形式(IMT)
application/pdf