数ＭｅＶ荷電粒子をリアルタイム大強度で非破壊的に計測可能なビームプロファイル手法の開発

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: 数ＭｅＶ荷電粒子をリアルタイム大強度で非破壊的に計測可能なビームプロファイル手法の開発
• 著者・編者: 高田, 真志; その他; 高田 真志
• 著者標目: 高田, 真志; その他; 高田 真志
• 出版年月日等: 2012-09-21
• 出版年（W3CDTF）: 2012-09-21
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 日本原子力学会 2012年秋の大会
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• 要約等: １．緒言 大出力かつ加速エネルギー数MeVイオンの照射する場合、低いビーム電流状態で、蛍光板、シンチレーターなどを使い、ビーム位置の調整を行い、その後、ビーム形状に変化が無いと仮定して、ビーム強度を上げての照射が行われている。照射中は、ビーム形状をモニターしないで照射が行われているのが実状である。...