数ＭｅＶ荷電粒子をリアルタイム大強度で非破壊的に計測可能なビームプロファイル手法の開発

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Summary, etc.：: １．緒言　大出力かつ加速エネルギー数MeVイオンの照射する場合、低いビーム電流状態で、蛍光板、シンチレーターなどを使い、ビーム位置の調整を行い、その後、ビーム形状に変化が無いと仮定して、ビーム強度を上げての照射が行われている。照射中は、ビーム形状をモニターしないで照射が行われているのが実状である。...

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Material Type: 文書・図像類
Title: 数ＭｅＶ荷電粒子をリアルタイム大強度で非破壊的に計測可能なビームプロファイル手法の開発
Author/Editor: 高田, 真志
その他
高田真志
Author Heading: 高田, 真志
その他
高田真志
Publication Date: 2012-09-21
Publication Date (W3CDTF): 2012-09-21
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 日本原子力学会　2012年秋の大会
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ