Thresholds of Etchable Track Formation and Chemical Damage Parameters in PI, PET, PC, and PADC Films at the Stopping Powers Ranging from 10 to 12,000 keV/um

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: Thresholds of Etchable Track Formation and Chemical Damage Parameters in PI, PET, PC, and PADC Films at the Stopping Powers Ranging from 10 to 12,000 keV/um
• 著者・編者: Yamauchi, Tomoya; Mori, Yutaka; Kanasaki, Masato; Hattori, Atsuto; Matai, Yuri; Matsukawa, Kenya; Oda, Keiji; Kodaira, Satoshi; Kitamura, Hisashi; Konishi, Teruaki; Yasuda, Nakahiro; Tojo, Sachiko; Honda, Yoshihide; Barillon, Remi; 服部 篤人; 又井 悠里; 松川 兼也; 小平 聡; 北村 尚; 小西 輝昭; バリロン レミ
• 著者標目: Yamauchi, Tomoya; Mori, Yutaka; Kanasaki, Masato; Hattori, Atsuto; Matai, Yuri; Matsukawa, Kenya; Oda, Keiji; Kodaira, Satoshi; Kitamura, Hisashi; Konishi, Teruaki; Yasuda, Nakahiro; Tojo, Sachiko; Honda, Yoshihide; Barillon, Remi; 服部 篤人; 又井 悠里; 松川 兼也; 小平 聡; 北村 尚; 小西 輝昭; バリロン レミ
• 出版年月日等: 2012-10-27
• 出版年（W3CDTF）: 2012-10-27
• 本文の言語コード: eng
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 8ｔｈ International Symposium on Swift Heavy Ions in Mater
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ