高耐力軟Ｘ線光学素子の開発

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: 高耐力軟Ｘ線光学素子の開発
• 著者・編者: 畑山, 雅俊; 市丸, 智; 石野, 雅彦; 錦野, 将元; 木下, 博雄; 石野 雅彦; 錦野 将元
• 著者標目: 畑山, 雅俊; 市丸, 智; 石野, 雅彦; 錦野, 将元; 木下, 博雄; 石野 雅彦; 錦野 将元
• 出版年月日等: 2018-05-09
• 出版年（W3CDTF）: 2018-05-09
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 光・量子ビーム科学合同シンポジウム2018（OPTO2018）
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• 要約等: 高強度EUV光に対して高い耐久性を持つ新規多層膜材料系を探索することを目的として、EUV用多層膜の候補となる様々な多層膜材料に対する損傷実験を行った。その結果、新規多層膜材料であるNb/Si多層膜は、Mo/Si多層膜と同等の反射率が得られること、XFELに対する損傷閾値がMo/Si多層膜より高いこと...