高耐力軟Ｘ線光学素子の開発

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Summary, etc.：: 高強度EUV光に対して高い耐久性を持つ新規多層膜材料系を探索することを目的として、EUV用多層膜の候補となる様々な多層膜材料に対する損傷実験を行った。その結果、新規多層膜材料であるNb/Si多層膜は、Mo/Si多層膜と同等の反射率が得られること、XFELに対する損傷閾値がMo/Si多層膜より高いこと...

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Material Type: 文書・図像類
Title: 高耐力軟Ｘ線光学素子の開発
Author/Editor: 畑山, 雅俊
市丸, 智
石野, 雅彦
錦野, 将元
木下, 博雄
石野雅彦
錦野将元
Author Heading: 畑山, 雅俊
市丸, 智
石野, 雅彦
錦野, 将元
木下, 博雄
石野雅彦
錦野将元
Publication Date: 2018-05-09
Publication Date (W3CDTF): 2018-05-09
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 光・量子ビーム科学合同シンポジウム2018（OPTO2018）
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ