文書・図像類

Ni イオン制御照射による SiO2 アモルファス中でのナノ粒子合成と特性

文書・図像類を表すアイコン

Ni イオン制御照射による SiO2 アモルファス中でのナノ粒子合成と特性

資料種別
文書・図像類
著者
山田, 智子ほか
出版者
-
出版年
2019-11-13
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

日本金属学会 秋期大会

書店で探す

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

    連携先のサイトで、学術機関リポジトリデータベース(IRDB)(機関リポジトリ)が連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
文書・図像類
著者・編者
山田, 智子
鷹野, 陽弘
杉田, 健人
岩瀬, 彰宏
前川, 雅樹
河裾, 厚男
堀, 史説
Maekawa, Masaki
Kawasuso, Atsuo
出版年月日等
2019-11-13
出版年(W3CDTF)
2019-11-13
本文の言語コード
jpn
対象利用者
一般
一般注記
日本金属学会 秋期大会
連携機関・データベース
国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース(IRDB)(機関リポジトリ)