Ni イオン制御照射による SiO2 アモルファス中でのナノ粒子合成と特性

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Summary, etc.：: 固体中へNiイオンを照射し，ナノ粒子を合成した．照射イオンのエネルギーと照射量をパラメータとして合成するナノ粒子の構造や形態などの制御を試みた．それぞれの条件でのナノ粒子の光吸収などについて評価した．(Provided by: 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）)

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Material Type: 文書・図像類
Title: Ni イオン制御照射による SiO2 アモルファス中でのナノ粒子合成と特性
Author/Editor: 山田, 智子
鷹野, 陽弘
杉田, 健人
岩瀬, 彰宏
前川, 雅樹
河裾, 厚男
堀, 史説
Maekawa, Masaki
Kawasuso, Atsuo
Author Heading: 山田, 智子
鷹野, 陽弘
杉田, 健人
岩瀬, 彰宏
前川, 雅樹
河裾, 厚男
堀, 史説
Maekawa, Masaki
Kawasuso, Atsuo
Publication Date: 2019-11-13
Publication Date (W3CDTF): 2019-11-13
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 日本金属学会　秋期大会
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ