高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究
• タイトルよみ: コウセイノウ ハクマク トランジスタ ノ ジツヨウカ オ メザシタ ダイリュウケイ シリコン ハクマク サクセイ シュホウ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 平松, 雅人
• 著者標目: 平松, 雅人 ヒラマツ, マサト
• 出版事項: 奈良先端科学技術大学院大学
• 出版年月日等: 2012-12-21
• 出版年（W3CDTF）: 2012-12-21
• 並列タイトル等: Study of Fabrication Method of Poly-Si Films with Large Grain-size for Practical Use of High-performance Thin Film Transisters
• 授与機関名: 奈良先端科学技術大学院大学
• 授与年月日: 2012-12-21
• 報告番号: 甲第1100号
• 学位: 博士(工学)
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 大粒径; ポリシリコン; 薄膜トランジスタ; レーザ結晶化; 位相変調法
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.34413/dr.01100
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 奈良先端科学技術大学院大学 : 奈良先端科学技術大学院大学学術リポジトリnaistar

目次

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