熱CVD成膜過程のモデル解析

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 熱CVD成膜過程のモデル解析
• 著者・編者: 秋山, 泰伸
• 著者標目: 秋山, 泰伸 アキヤマ, ヤスノブ
• 出版年月日等: 1997-09-25
• 出版年（W3CDTF）: 1997-09-25
• 授与機関名: 九州大学
• 授与年月日: 1997-09-25
• 報告番号: 乙第6532号
• 学位: 博士（工学）; DOCTOR OF ENGINEERING
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.11501/3130971
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 関連情報（URI）: URI; https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3130971
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 九州大学 : 九州大学学術情報リポジトリ

目次

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akiyama2.pdf

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第1章 緒論 第2章 CVDのモデル化とシミュレーション 第3章 ジルコニア(Zr0_2)およびイットリア(Y_2O_3)薄膜のLPMOCVD成膜実験とモデル解析 第4章 イットリア安定化ジルコニア(YSZ)薄膜のLPMOCVD成膜実験とモデル解析 第5章 非線型表面反応速度式を示す系でのカバレッジのシミュレーション 第6章 ミクロトレンチ及びホールの成膜形状制御 第7章 総括