熱CVD成膜過程のモデル解析

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第1章緒論第2章 CVDのモデル化とシミュレーション第3章ジルコニア(Zr0_2)およびイットリア(Y_2O_3)薄膜のLPMOCVD成膜実験とモデル解析第4章イットリア安定化ジルコニア(YSZ)薄膜のLPMOCVD成膜実験とモデル解析第5章非線型表面反応速度式を示す系でのカバレッジのシミュレーション第6章ミクロトレンチ及びホールの成膜形状制御第7章総括

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Material Type: 博士論文
Title: 熱CVD成膜過程のモデル解析
Author/Editor: 秋山, 泰伸
Author Heading: 秋山, 泰伸アキヤマ, ヤスノブ
Publication Date: 1997-09-25
Publication Date (W3CDTF): 1997-09-25
Degree grantor/type: 九州大学
Date Granted: 1997-09-25
Dissertation Number: 乙第6532号
Degree Type: 博士（工学）
DOCTOR OF ENGINEERING
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
DOI: 10.11501/3130971
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Related Material (URI): URI
https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3130971
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 九州大学 : 九州大学学術情報リポジトリ