微小角入射X線小角散乱による薄膜表面および薄膜に埋もれたナノ構造の評価に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 微小角入射X線小角散乱による薄膜表面および薄膜に埋もれたナノ構造の評価に関する研究
• 著者・編者: 伊藤, 義泰
• 並列タイトル等: Nanostructure determination of surfaces and varied interfaces of thin films by grazing-incidence small-angel X-ray scattering
• 授与機関名: 九州工業大学
• 報告番号: 甲第284号
• 学位: 博士（工学）
• 件名標目: 微小角入射X線小角散乱; 埋もれた表面界面; 粒子・空孔サイズ分布; Low-k; 磁性ナノ粒子; CD計測; Grazing-incidence small-angel X-ray scattering; surface and varied interface; particle/pore size distribution; CD metrology
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 出版タイプ： VoR; 九州工業大学博士学位論文 学位記番号:工博甲第284号 学位授与年月日:平成21年3月25日; 平成20年度
• DOI: 10.18997/00001669; https://doi.org/10.18997/00001669
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• 一次資料へのリンクURL: D-57_kou_k_284.pdf （fulltext）; https://kyutech.repo.nii.ac.jp/record/1675/files/D-57_kou_k_284.pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 九州工業大学 : キューテイカー

• 要約等: 半導体や磁性デバイスなど多くの電子デバイス材料は,回路の高集積化や記録層の高密度化などを目的とし,サブミクロンからナノスケールへと微細化が進められている.そのため,デバイスのプロセス管理に要求される計測の分解能や精度はナノメートルからサブナノメートルに達しつつある.ナノスケールの微細化にともなうデバ...

目次

第1章 序論|第2章 多孔質低誘電率層間絶縁膜中のナノ空孔の構造評価|第3章 磁性薄膜中のニッケル磁性ナノ粒子のナノ構造評価|第4章 CD－SAXSによる一次元表面回折格子のピッチ幅計測と断面形状の評価|第5章 研究の成果と今後の期待|引用文献|用語集と解説|論文および発表リスト|謝辞