微小角入射X線小角散乱による薄膜表面および薄膜に埋もれたナノ構造の評価に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 微小角入射X線小角散乱による薄膜表面および薄膜に埋もれたナノ構造の評価に関する研究
• Author/Editor: 伊藤, 義泰
• Author Heading: 伊藤, 義泰
• Alternative Title: Nanostructure determination of surfaces and varied interfaces of thin films by grazing-incidence small-angel X-ray scattering
• Degree grantor/type: 九州工業大学
• Date Granted: 2009-03-25
• Dissertation Number: 甲第284号
• Degree Type: 博士（工学）
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 微小角入射X線小角散乱; 埋もれた表面界面; 粒子・空孔サイズ分布; Low-k; 磁性ナノ粒子; CD計測; Grazing-incidence small-angel X-ray scattering; surface and varied interface; particle/pore size distribution; CD metrology
• Target Audience: 一般
• Note (General): 九州工業大学博士学位論文 学位記番号:工博甲第284号 学位授与年月日:平成21年3月25日; 平成20年度
• DOI: 10.18997/00001669
• Format (IMT): application/pdf
• Source: D-57_kou_k_284.pdf （fulltext）; https://kyutech.repo.nii.ac.jp/record/1675/files/D-57_kou_k_284.pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 九州工業大学 : キューテイカー

• Summary, etc.: 半導体や磁性デバイスなど多くの電子デバイス材料は,回路の高集積化や記録層の高密度化などを目的とし,サブミクロンからナノスケールへと微細化が進められている.そのため,デバイスのプロセス管理に要求される計測の分解能や精度はナノメートルからサブナノメートルに達しつつある.ナノスケールの微細化にともなうデバ...

Table of Contents

第1章 序論|第2章 多孔質低誘電率層間絶縁膜中のナノ空孔の構造評価|第3章 磁性薄膜中のニッケル磁性ナノ粒子のナノ構造評価|第4章 CD－SAXSによる一次元表面回折格子のピッチ幅計測と断面形状の評価|第5章 研究の成果と今後の期待|引用文献|用語集と解説|論文および発表リスト|謝辞