フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析
• 著者・編者: Fukumoto, Hiroshi
• 著者標目: Fukumoto, Hiroshi
• 出版事項: 京都大学 (Kyoto University)
• 出版年月日等: 2012-05-23
• 出版年（W3CDTF）: 2012-05-23
• 並列タイトル等: Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas
• 寄与者: 斧, 髙一; 稲室, 隆二; 青木, 一生
• 授与機関名: 京都大学
• 授与年月日: 2012-05-23
• 報告番号: 甲第17064号
• 学位: 博士(工学); Doctor of Philosophy (Engineering)
• 本文の言語コード: eng
• 著者別名: 福本, 浩志; フクモト, ヒロシ
• 件名標目: Fluorocarbon plasmas; Inductively coupled plasma; Plasma etching profile; Charging
• NDC: 500
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.14989/doctor.k17064
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 京都大学 : 京都大学学術情報リポジトリ

目次

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