低温プラズマプロセスを用いたイオン導電性薄膜の作製に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 低温プラズマプロセスを用いたイオン導電性薄膜の作製に関する研究
• 著者・編者: Uchimoto, Yoshiharu
• 著者標目: Uchimoto, Yoshiharu
• 出版事項: Kyoto University
• 出版年月日等: 1991-03-23
• 出版年（W3CDTF）: 1991-03-23
• 並列タイトル等: A STUDY ON THE PREPARATION OF IONICALLY CONDUCTIVE THIN FILMS UTILIZING LOW TEMPERATURE PLASMA PROCESSES
• 寄与者: 竹原, 善一郎; 一瀬, 光之尉; 岩崎, 又衛
• 授与機関名: 京都大学
• 授与年月日: 1991-03-23
• 報告番号: 乙第7486号
• 学位: 工学博士
• 本文の言語コード: eng
• 著者別名: 内本, 喜晴; ウチモト, ヨシハル
• NDC: 500
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 本文データは平成22年度国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化実施により作成された画像ファイルを基にpdf変換したものである
• DOI: 10.11501/3053082
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 京都大学 : 京都大学学術情報リポジトリ

目次

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