超音速噴流を用いたＶＨＦプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: 超音速噴流を用いたＶＨＦプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発
• 著者・編者: 牟田, 浩司
• 著者標目: 牟田, 浩司
• 出版事項: 近畿大学
• 出版年月日等: 2016
• 出版年（W3CDTF）: 2016
• 並列タイトル等: High speed fabrication of large-area microcrystalline silicon films using VHF plasma with an under-expanded supersonic jet
• タイトル（掲載誌）: 科学研究費助成事業研究成果報告書 (2015)
• 掲載ページ: 1-5
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: VHFプラズマ; 超音速噴流; 高速製膜; クラスター; マルチホローカソード; シランプラズマ
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 研究種目：基盤研究(C); 研究期間：2013～2015; 課題番号：25390108; 研究分野：応用物理学; 科研費の分科・細目： Research Paper; application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
• 関連情報: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25390108/
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 近畿大学 : 近畿大学学術情報リポジトリ

• 要約等: 研究成果の概要（和文）：本研究は微結晶シリコン製膜プロセスの高速化・高品質化・大面積化を目指して、特にガス流れに注目し、プラズマや膜特性との関係を詳細に調べ、製膜プロセスの高度化を図ることを目的としている。シランプラズマ中で超音速噴流を用いると、ガス圧とノズル基板間距離を最適化することで従来の約10...