OPAL炉における照射技術の調査

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: OPAL炉における照射技術の調査
• 著者・編者: 細川 甚作; 出雲 寛互; 石塚 悦男
• 著者標目: 細川 甚作; 出雲 寛互; 石塚 悦男
• 出版年月日等: 2008-06
• 出版年（W3CDTF）: 2008-06
• 並列タイトル等: Overview of irradiation technology in OPAL reactor
• タイトル（掲載誌）: JAEA-Review 2008-028
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: JMTRに設置する新しい照射設備の技術開発に資するため、オーストラリアOPAL炉の医療用RI製造用$^{99}$Mo製造設備,シリコン半導体製造設備,気送管照射設備,RI取扱設備について調査した。本報告書は、これら照射設備について、設備の構造や安全設計の考え方等の調査結果をまとめたものである。; For the purpose of advanced technology developments on new irradiation facilities installed in the JMTR, the $^{99}$Mo production facility for medical RI, silicon semiconductor production facility, pneumatic irradiation facilities, RI handling facilities in the OPAL were investigated. In this paper, basic structure and the safety design concepts for these irradiation facilities are reported.
• 一次資料へのリンクURL: /JAEA-Review-2008-028.pdf （fulltext）; https://jopss.jaea.go.jp/pdfdata/JAEA-Review-2008-028.pdf
• オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 日本原子力研究開発機構 : JOPSS:JAEA Originated Papers Searching System

• 要約等: JMTRに設置する新しい照射設備の技術開発に資するため、オーストラリアOPAL炉の医療用RI製造用$^{99}$Mo製造設備,シリコン半導体製造設備,気送管照射設備,RI取扱設備について調査した。本報告書は、これら照射設備について、設備の構造や安全設計の考え方等の調査結果をまとめたものである。For...