OPAL炉における照射技術の調査

• Material Type: 文書・図像類
• Title: OPAL炉における照射技術の調査
• Author/Editor: 細川 甚作; 出雲 寛互; 石塚 悦男
• Author Heading: 細川 甚作; 出雲 寛互; 石塚 悦男
• Publication Date: 2008-06
• Publication Date (W3CDTF): 2008-06
• Alternative Title: Overview of irradiation technology in OPAL reactor
• Periodical title: JAEA-Review 2008-028
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Note (General): JMTRに設置する新しい照射設備の技術開発に資するため、オーストラリアOPAL炉の医療用RI製造用$^{99}$Mo製造設備,シリコン半導体製造設備,気送管照射設備,RI取扱設備について調査した。本報告書は、これら照射設備について、設備の構造や安全設計の考え方等の調査結果をまとめたものである。; For the purpose of advanced technology developments on new irradiation facilities installed in the JMTR, the $^{99}$Mo production facility for medical RI, silicon semiconductor production facility, pneumatic irradiation facilities, RI handling facilities in the OPAL were investigated. In this paper, basic structure and the safety design concepts for these irradiation facilities are reported.
• Source: /JAEA-Review-2008-028.pdf （fulltext）; https://jopss.jaea.go.jp/pdfdata/JAEA-Review-2008-028.pdf
• Access Restrictions: 限定公開
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 日本原子力研究開発機構 : JOPSS:JAEA Originated Papers Searching System

• Summary, etc.: JMTRに設置する新しい照射設備の技術開発に資するため、オーストラリアOPAL炉の医療用RI製造用$^{99}$Mo製造設備,シリコン半導体製造設備,気送管照射設備,RI取扱設備について調査した。本報告書は、これら照射設備について、設備の構造や安全設計の考え方等の調査結果をまとめたものである。For...