原子間力顕微鏡(AFM)と透過型電子顕微鏡(TEM)を用いたシリコン単結晶のマイクロ摩耗プロセスの解明

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: 原子間力顕微鏡(AFM)と透過型電子顕微鏡(TEM)を用いたシリコン単結晶のマイクロ摩耗プロセスの解明
• 著者・編者: 高木, 誠; 松室, 昭仁; 岩田, 博之
• 著者標目: 高木, 誠; 松室, 昭仁; 岩田, 博之
• 出版事項: 愛知工業大学
• 出版年月日等: 2013-09-30
• 出版年（W3CDTF）: 2013-09-30
• 並列タイトル等: ゲンシカンリョク ケンビキョウ AFM ト トウカガタ デンシ ケンビキョウ TEM オモチイタ シリコン タンケッショウ ノ マイクロ マサツ プロセス ノ カイメイ; Study on Microwear Proass of Silicon Single Crystal Using AFM and TEM
• タイトル（掲載誌）: 総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
• 巻号年月日等（掲載誌）: 15
• 掲載巻: 15
• 掲載ページ: 67-71
• ISSN（掲載誌）: ISSN : 1344-9672
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: The change of microstructure of a Si single crystal surface after scanning-scratching tests under very srnall loadingforces by AFM was investigated by cross-sectional TEM observations in order to clarify the micro/nanowear process and the modification. The cross sectional TEM observations indicated wear process of Si single crystal;(1) introduction of dislocations and residual strain，and amorphization of Si single crystal， (2)the amorphous Si region was worn off and the formation of new amorphous Si phase became difficult.; identifier:http://repository.aitech.ac.jp/dspace/handle/11133/2797
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• 一次資料へのリンクURL: http://repository.aitech.ac.jp/dspace/bitstream/11133/2797/1/%e7%b7%8f%e7%a0%9415%e5%8f%b7%28P67-71%29.pdf
• オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 愛知工業大学 : 愛知工業大学学術情報リポジトリ