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目次
26(8) 1983.08
- 低エネルギー正イオンに対するマイクロチャンネルプレートの利得
p671~676
- クエンチ法によるNbN薄膜の作製
p657~662
- ホットバキウムに挑む
p677~695
- スパッタ法によるγ-F2O3薄膜の磁気特性
p663~670
26(12) 1983.12
- 真空第26巻総目次(1983年1~12月)
p943~948
- 励起中性粒子検出法を用いた指向性真空計の研究
p904~912
- 高周波二極スパッタ法によるZnO透明電導膜
p889~894
- プラズマ重合多層レジストの効果(速報)
p919~921
26(7) 1983.07
- アセチレンのイオン化蒸着によるダイヤモンド状カーボン膜
p622~627
- 新しいマイクロ波プラズマ化学気相堆積装置
p628~636
- 金属上の吸着層の誘電率
p614~621
- 非晶質GdTbFe薄膜における膜組成及び磁化特性のAr圧力依存性
p599~605
26(11) 1983.11
- 改良形プレーナマグネトロンスパッタ装置の磁場分布と直流放電特性
p837~845
- プラズマCVD法により形成したタングステンシリサイド膜の評価
p831~836
- 超音波洗浄
p811~830
26(9) 1983.09
- 10-10Paの到達真空度をもつ強電界電子放射測定装置の試作
p726~730
- 磁気軸受の基礎と応用
p705~710
26(10) 1983.10
- 新しい真空・圧力計の試作--クーロン反撥型および音波利用型
p789~791
- Si(111)7×7面におけるGe薄膜の成長様式と5×5超構造
p778~783
- Si基板上のZnS蒸着膜の構造とモルフォロジー
p770~777
- 真空機器に使用するベローズ
p757~769