真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: 真空
• タイトルよみ: シンクウ
• 巻次・部編番号: 28(1)-28(4) 19850100-19850400
• 著者標目: 日本真空協会 ニホン シンクウ キョウカイ ( 00294657 )典拠; 真空協会 シンクウ キョウカイ ( 00781289 )典拠
• 出版事項: 東京 : 日本真空協会
• 出版年月日等: 1985
• 出版年（W3CDTF）: 1985
• 出版表示等に関する注記: 1巻1号から14巻1号までの出版者: 真空協会
• 刊行巻次・年月次: 1巻1号 - 50巻12号(2007年12月)
• 大きさ: 30cm
• 並列タイトル等: Journal of the Vacuum Society of Japan Journal of the Vacuum Society of Japan; Journal of the Vacuum Society of Japan
• その他のタイトル: 真空技術 シンクウ ギジュツ
• ISSN（掲載誌）: 0559-8516
• ISSN-L（掲載誌）: 0559-8516
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• NDLC: ZN15
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 大きさの変更あり
• 改題等に関する注記: 合併前誌: 真空技術
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-474
• 改題前: 合併前; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000011966
• 改題後: 継続後 : Journal of the Vacuum Society of Japan; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000008601226
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000011964; http://id.ndl.go.jp/bib/000000011964
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版

目次

反応性イオンエッチングによる光磁気ディスク基板

真空用ボールベアリングの応用と評価

超高真空用アルミニウム合金チェンバーの放出ガス測定(速報)

ZnxCd1-xS固溶体薄膜の作成とその光学的性質

MBEによるGaAsP混晶の成長

二次電子増倍板付きLEED装置の歪補正に用いる非球面グリッドの解析

Si表面におけるTiSi2の膜の成長と酸化

三次元回路素子研究開発の動向

イオンビーム法によるGaAs,石英,ガラス基板上へのZnSe薄膜の成長

真空装置における安全化の問題

XPS,SIMSによるV2O5蒸着膜のエレクトロクロミズムの研究

ドライエッチング装置における安全対策

減圧CVD装置の現状と技術的課題

絶縁物ポリイミドのオージェ電子分光分析

低温プラズマ特集号

自然のプラズマと人工のプラズマ (低温プラズマ特集号)

低温プラズマと工学-1-何が制御でき,できないか (低温プラズマ特集号)

低温プラズマと工学-2-電子工学の立場から (低温プラズマ特集号)

低温プラズマと工学-3-企業の立場から (低温プラズマ特集号)