電子技術総合研究所研究報告(991)

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: 電子技術総合研究所研究報告
• タイトルよみ: デンシ ギジュツ ソウゴウ ケンキュウジョ ケンキュウ ホウコク
• 巻次・部編番号: (991)
• 著者・編者: 電子技術総合研究所 編
• 著者標目: 工業技術院電子技術総合研究所 コウギョウ ギジュツイン デンシ ギジュツ ソウゴウ ケンキュウジョ ( 00288079 )典拠
• 出版事項: つくば : 電子技術総合研究所
• 出版年月日等: 2000-03
• 出版年（W3CDTF）: 2000-03
• 出版表示等に関する注記: 出版地の変更あり
• 刊行巻次・年月次: 709号 (昭和45年5月)-
• 大きさ: 26-30cm
• 並列タイトル等: Research of the Electrotechnical Laboratory
• ISSN（掲載誌）: 0366-9106
• ISSN-L（掲載誌）: 0366-9106
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZN33
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 本タイトルは「Research of the Electrotechnical Laboratory」のこともあり
• DOI: 10.11501/3330050; https://doi.org/10.11501/3330050
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3330050; https://dl.ndl.go.jp/pid/3330050
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 一般注記（コンテンツ）: 他のアイテム : info:ndljp/pid/4002250
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2011-03-31
• 受理日（W3CDTF）: 2012-01-30T12:58:58+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: 709号 (昭和45年5月)-995号 (2000年12月)
• 請求記号: Z16-622
• 原資料（JPNO）: 00015906
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/3381017; https://dl.ndl.go.jp/pid/3381017
• 改題前（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/2384915; https://dl.ndl.go.jp/pid/2384915
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

超高真空電子ビーム描画装置の開発とナノファブリケーションに関する研究

第1章 序論

第2章 超高真空電子ビ―ム描画装置の開発

第3章 高分解能レジストへのファインパターンニング

第4章 SiO2レジストを利用したナノファブリケーション