Ricoh technical report(14)

• 資料種別: 雑誌
• ISSN: 0387-7795
• ISSN-L: 0387-7795
• タイトル: Ricoh technical report
• 巻次・部編番号: (14)
• 著者標目: リコー リコー ( 00629415 )典拠
• 出版事項: 海老名 : リコー研究開発本部
• 出版年月日等: 1985-11
• 出版年（W3CDTF）: 1985-11
• 出版表示等に関する注記: 出版地の変更あり; 出版者変遷: リコー技術本部 (no. 1-no. 15)→ リコー中央研究所 (no. 16-no. 20)→ リコー研究開発本部 (no. 21-no. 40)→ リコーICT研究所・リコー未来技術研究所 (no. 41-no. 42)
• 刊行巻次・年月次: No. 1 (1979)-no. 43 (2017)
• 大きさ: 30cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• NDLC: ZM5
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 刊行頻度の変更あり
• DOI: 10.11501/3211474; https://doi.org/10.11501/3211474
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3211474; https://dl.ndl.go.jp/pid/3211474
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 一般注記（コンテンツ）: 他のアイテム : info:ndljp/pid/3513141
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2011-03-31
• 受理日（W3CDTF）: 2012-01-27T12:23:10+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: No. 1 (1979)-no. 43 (2017)
• 請求記号: Z14-755
• 原資料（JPNO）: 00032770
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/3380924; https://dl.ndl.go.jp/pid/3380924
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

巻頭言 これからの超LSI技術と表示装置

技術論文 a-Si:H膜のランプアニールによる微結晶化

ワイドバンドギャップa-Si:O:H膜の特性

2元マグネトロンスパッタ法による非晶質TbFeCo膜の作製

メロシアニンLB膜の励起子フォノン相互作用