Ricoh technical report (14)
図書館・個人送信サービスを利用する
収録元データベースで確認する
国立国会図書館デジタルコレクション
国立国会図書館の登録利用者(本登録)の方を対象とした、個人送信サービスで閲覧可能です。ただし、日本国外に居住している場合は、個人送信サービスを利用できません。
書店で探す
障害者向け資料で読む
目次
巻頭言 これからの超LSI技術と表示装置
技術論文 a-Si:H膜のランプアニールによる微結晶化
ワイドバンドギャップa-Si:O:H膜の特性
2元マグネトロンスパッタ法による非晶質TbFeCo膜の作製
メロシアニンLB膜の励起子フォノン相互作用
書店で探す
障害者向け資料で読む
- みなサーチ
- プレーンテキスト
みなサーチに登録・ログインで利用できます
書誌情報
この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。
- 資料種別
- 雑誌
- ISSN
- 0387-7795
- ISSN-L
- 0387-7795
- 巻次・部編番号
- (14)
- 出版事項
- 出版年月日等
- 1985-11
- 出版年(W3CDTF)
- 1985-11
- 出版表示等に関する注記
- 出版地の変更あり出版者変遷: リコー技術本部 (no. 1-no. 15)→ リコー中央研究所 (no. 16-no. 20)→ リコー研究開発本部 (no. 21-no. 40)→ リコーICT研究所・リコー未来技術研究所 (no. 41-no. 42)