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Table of Contents
巻頭言 これからの超LSI技術と表示装置
技術論文 a-Si:H膜のランプアニールによる微結晶化
ワイドバンドギャップa-Si:O:H膜の特性
2元マグネトロンスパッタ法による非晶質TbFeCo膜の作製
メロシアニンLB膜の励起子フォノン相互作用
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- プレーンテキスト
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 雑誌
- Volume
- (14)
- Author Heading
- リコー リコー ( 00629415 )Authorities
- Publication, Distribution, etc.
- Publication Date
- 1985-11
- Publication Date (W3CDTF)
- 1985-11
- Note (Publication, distribution, etc.)
- 出版地の変更あり出版者変遷: リコー技術本部 (no. 1-no. 15)→ リコー中央研究所 (no. 16-no. 20)→ リコー研究開発本部 (no. 21-no. 40)→ リコーICT研究所・リコー未来技術研究所 (no. 41-no. 42)
- Year and volume of publication
- No. 1 (1979)-no. 43 (2017)
- Size
- 30cm