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Ricoh technical report (14)

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Ricoh technical report(14)

Call No. (NDL)
Z14-755
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3211474
Material type
雑誌
Publisher
リコー研究開発本部
Publication date
1985-11
Publication Frequency
-
Material Format
Digital
Capacity, size, etc.
30cm
NDC
-
View All

Notes on use

Holding issue:

No. 1 (1979)-no. 43 (2017)

Volume Range:

No. 1 (1979)-no. 43 (2017)

Note (General):

本タイトル等は最新号による刊行頻度の変更あり

Table of Contents

  • 巻頭言 これからの超LSI技術と表示装置

    広瀬全孝/1~2

  • 技術論文 a-Si:H膜のランプアニールによる微結晶化

    猪野益充 ; 谷克彦/4~10

  • ワイドバンドギャップa-Si:O:H膜の特性

    羽賀浩一/11~17

  • 2元マグネトロンスパッタ法による非晶質TbFeCo膜の作製

    田中元治 ; 近江文也 ; 和多田篤行/18~25

  • メロシアニンLB膜の励起子フォノン相互作用

    井上俊春/26~31

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Bibliographic Record

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Digital

Material Type
雑誌
ISSN
0387-7795
ISSN-L
0387-7795
Volume
(14)
Author Heading
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
1985-11
Publication Date (W3CDTF)
1985-11
Note (Publication, distribution, etc.)
出版地の変更あり
出版者変遷: リコー技術本部 (no. 1-no. 15)→ リコー中央研究所 (no. 16-no. 20)→ リコー研究開発本部 (no. 21-no. 40)→ リコーICT研究所・リコー未来技術研究所 (no. 41-no. 42)