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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
CONTENTS//5~8
I ELECTRON IMPACT//1~10
Quantitative analysis of CF₄ produced in the SiO₂ etching process by c-C₄F₈, C₃F₈, and C₂F₆ plasmas using in-situ mass spectrometry/K. Furuya ; Y. Hatano/1~2
Generalized oscillator strength of nitric oxide for the valence shell excitations/N. Miyauchi ; H. Kuwabara ; L. F. Zhu ; Y. Ikeda ; Y. Sakai ; H. Suzuki ; T. Takayanagi ; C. Yamada ; S. Ohtani/3~4
Elastic scattering of electrons from water molecules/T. Ono ; M. Takahashi ; K. Tanaka ; K. Soejima ; A. Danjo/5~7
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書誌情報
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- 資料種別
- 雑誌
- 巻次・部編番号
- (29);2003
- 出版年月日等
- 2003-12
- 出版年(W3CDTF)
- 2003-12
- 刊行巻次・年月次
- [ ] -
- 大きさ
- 26 cm
- 出版地(国名コード)
- JP