巻号16;NOVEMBER 1994
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Proceedings of Symposium on Dry Process 16;NOVEMBER 1994

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Proceedings of Symposium on Dry Process16;NOVEMBER 1994

国立国会図書館請求記号
Z63-B381
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/11019428
資料種別
雑誌
出版者
Institute of Electrical Engineers of Japan
出版年
1994-11
刊行頻度
-
資料形態
デジタル
ページ数・大きさ等
28 cm
NDC
-
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資料に関する注記

所蔵巻次等:

7:1985 - 22:2000

刊行巻次:

[ ] - 22:2000

一般注記:

Description based on the latest issueTitle in Japanese: Dorai Purosesu Sinpozyumu

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目次

  • THE 16th SYMPOSIUM ON DRY PROCESS PROGRAM = 第16回ドライプロセスシンポジウム プログラム//5~8

  • Thursday, Nobember 10, 1994 = 11月10日(木)//~116

  • Session I : PROCESSING PLASMA = Session I プロセス用プラズマ//~48

  • I-1 <Invited Paper> Comparison of the Ion Velocity Distribution in Different High Density Reactors (ECR, Helicon, DECR, ......)/N. Sadeghi/1~1

  • I-2 Real-Time Feedback Control of 2 -Dimensional Parameters in Etching Plasmas/P. L. G. Ventzek ; N. Yamada ; K. Kitamori ; Y. Sakai ; H. Tagashira/3~8

書誌情報

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デジタル

資料種別
雑誌
巻次・部編番号
16;NOVEMBER 1994
出版年月日等
1994-11
出版年(W3CDTF)
1994-11
刊行巻次・年月次
[ ] - 22:2000
大きさ
28 cm
並列タイトル等
Dorai Purosesu Sinpozyumu
出版地(国名コード)
JP