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博士論文

高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究

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高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-61-O183
国立国会図書館書誌ID
000000170900
資料種別
博士論文
著者
谷内利明 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
静岡大学,工学博士
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書誌情報

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紙

資料種別
博士論文
タイトル
高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究
タイトルよみ
コウシュウハ スパッタリング ニ ヨル ハクマク ケイセイ ト MOS ソシ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
谷内利明 [著]
著者標目
谷内, 利明 ヤチ, トシアキ
数量
冊
授与機関名
静岡大学
授与年月日
昭和61年9月30日
授与年月日（W3CDTF）
1986
報告番号
乙第14号