博士論文

Investigation on high-concentration arsenic diffusion in silicon

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Investigation on high-concentration arsenic diffusion in silicon

国立国会図書館請求記号
UT51-59-J179
国立国会図書館書誌ID
000000207826
資料種別
博士論文
著者
大川潭二 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東京工業大学,工学博士
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博士論文

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書誌情報

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資料種別
博士論文
著者・編者
大川潭二 [著]
著者標目
大川, 潭二 オオカワ, シンジ
数量
並列タイトル等
シリコン中の高濃度砒素拡散の研究 シリコンチュウ ノ コウノウド ヒソ カクサン ノ ケンキュウ
授与機関名
東京工業大学
授与年月日
昭和59年1月31日
授与年月日(W3CDTF)
1984
報告番号
乙第1307号