Studies of oxidation-induced stacking faults in silicon

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies of oxidation-induced stacking faults in silicon
• 著者・編者: 早藤貴範 [著]
• 著者標目: 早藤, 貴範 ハヤフジ, ヨシノリ
• 数量: 冊
• 並列タイトル等: シリコン結晶の熱酸化積層欠陥の研究 シリコン ケッショウ ノ ネツ サンカ セキソウ ケッカン ノ ケンキュウ
• 授与機関名: 関西学院大学
• 授与年月日: 昭和59年3月27日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1984
• 報告番号: 乙第101号
• 学位: 理学博士
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51; UT21
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-59-K242
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000214994; http://id.ndl.go.jp/bib/000000214994
• 整理区分コード: 213