図書館・個人送信サービスを利用する
収録元データベースで確認する
国立国会図書館デジタルコレクション
国立国会図書館の登録利用者(本登録)の方を対象とした、個人送信サービスで閲覧可能です。ただし、日本国外に居住している場合は、個人送信サービスを利用できません。
書店で探す
障害者向け資料で読む
目次
TABLE OF CONTENTS
p1
CHAPTER1 INTRODUCTION
1.1 Motivation of This Work
p1
1.2 Organization
p5
CHAPTER2 PULSED EXCIMER LASER ANNEALING OF a-Si:H
書店で探す
障害者向け資料で読む
- プレーンテキスト
みなサーチに登録・ログインで利用できます
書誌情報
この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。
- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 鮫島俊之 [著]
- 著者標目
- 鮫島, 俊之 サメシマ, トシユキ
- 並列タイトル等
- XeClエキシマレーザを用いたシリコン膜のアニーリングの研究 XeCl エキシマ レーザ オ モチイタ シリコンマク ノ アニーリング ノ ケンキュウ
- 授与機関名
- 静岡大学
- 授与年月日
- 平成3年2月21日
- 授与年月日(W3CDTF)
- 1991
- 報告番号
- 乙第34号
- 学位
- 工学博士