Studies on electron impact excitation of the group Ⅳ hydride molecules used in plasma processing

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies on electron impact excitation of the group Ⅳ hydride molecules used in plasma processing
• 著者・編者: Kyaw Tint [著]
• 著者標目: Kyaw, Tint チョウ, ティン
• 並列タイトル等: プラズマプロセシング用Ⅳ族水素化物分子の電子衝突励起に関する研究 プラズマ プロセシングヨウ 4ゾク スイソカブツ ブンシ ノ デンシ ショウトツ レイキ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 名古屋大学
• 授与年月日: 平成2年12月15日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1990
• 報告番号: 甲第2385号
• 学位: 工学博士
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51; UT31
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-91-D53
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000237676; http://id.ndl.go.jp/bib/000000237676
• 整理区分コード: 213

目次

Contents

Chapter1. Introduction

1.1 Understanding of the Plasma Process

1.2 Optical Emission Spectroscopy

1.3 Studies on Fundamental Processes