Studies on electron impact excitation of the group Ⅳ hydride molecules used in plasma processing

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies on electron impact excitation of the group Ⅳ hydride molecules used in plasma processing
• Author/Editor: Kyaw Tint [著]
• Author Heading: Kyaw, Tint チョウ, ティン
• Alternative Title: プラズマプロセシング用Ⅳ族水素化物分子の電子衝突励起に関する研究 プラズマ プロセシングヨウ 4ゾク スイソカブツ ブンシ ノ デンシ ショウトツ レイキ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成2年12月15日
• Date Granted (W3CDTF): 1990
• Dissertation Number: 甲第2385号
• Degree Type: 工学博士
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51; UT31
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-91-D53
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000237676; http://id.ndl.go.jp/bib/000000237676
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

Chapter1. Introduction

1.1 Understanding of the Plasma Process

1.2 Optical Emission Spectroscopy

1.3 Studies on Fundamental Processes