プラズマプロセスによるZnSeヘテロエピタキシャル成長
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目次
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第1章 序論
p1
第1章の参考文献
p6
第2章 プラズマ・アシステド エピタキシーによるZnSe薄膜の成長法と評価法
p7
2-1 はじめに
p7
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- プラズマ プロセス ニ ヨル ZnSe ヘテロエピタキシャル セイチョウ
- 著者・編者
- 山内智 [著]
- 著者標目
- 山内, 智 ヤマウチ, サトシ
- 授与機関名
- 東北大学
- 授与年月日
- 平成3年3月28日
- 授与年月日(W3CDTF)
- 1991
- 報告番号
- 甲第4418号
- 学位
- 工学博士