光CVD五酸化タンタル薄膜の堆積とリーク電流低減の機構に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 光CVD五酸化タンタル薄膜の堆積とリーク電流低減の機構に関する研究
• タイトルよみ: ヒカリ CVD ゴサンカ タンタル ハクマク ノ タイセキ ト リーク デンリュウ テイゲン ノ キコウ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 谷本智 [著]
• 著者標目: 谷本, 智 タニモト, サトシ
• 授与機関名: 東京農工大学
• 授与年月日: 平成4年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1992
• 報告番号: 甲第18号
• 学位: 工学博士
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51; UT31
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-92-K432
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000251183; http://id.ndl.go.jp/bib/000000251183
• 整理区分コード: 213

目次

【第1章 序論】

1.1 本研究の歴史的背景

1.2 低リーク電流酸化タンタル膜の実現

1.3 本研究のあらましと意義

【第2章 光CVD装置の構成と操作法】