マイクロ波プラズマCVD法によるAl-Si-C-O-N系薄膜の合成に関する研究
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目次
論文目次
p1
第I章 緒論
p1
I-1 本研究の目的と意義
p1
I-2 Al-Si-C-0-N系セラミックスの概要とその応用
p5
I-3 Al-Si-C-O-N系薄膜合成の近況とその特性
p13
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- マイクロハ プラズマ CVDホウ ニ ヨル Al-Si-C-O-Nケイ ハクマク ノ ゴウセイ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 染野義博 [著]
- 著者標目
- 染野, 義博 ソメノ, ヨシヒロ
- 授与機関名
- 東北大学
- 授与年月日
- 平成5年2月10日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1993
- 報告番号
- 乙第5962号
- 学位
- 博士 (工学)