インターネットで読む
すぐに読む
国立国会図書館デジタルコレクション
書店で探す
障害者向け資料で読む
目次
ABSTRACT
CONTENTS
p1
I INTRODUCTION
p1
I.I REACTIVE SPUTTERING
p1
I.II BACKGROUND OF RESEARCH
p2
書店で探す
障害者向け資料で読む
- プレーンテキスト
みなサーチに登録・ログインで利用できます
書誌情報
この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。
- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 草野英二 [著]
- 並列タイトル等
- 反応性スパッタリングによるTiO[2]形成プロセスの解析 ハンノウセイ スパッタリング ニ ヨル TiO2 ケイセイ プロセス ノ カイセキ
- 授与機関名
- 東京大学
- 授与年月日
- 平成5年3月18日
- 授与年月日(W3CDTF)
- 1993
- 報告番号
- 乙第11190号
- 学位
- 博士 (工学)