Analysis of reactive sputtering deposition process of TiO[2] films

• Material Type: 博士論文
• Title: Analysis of reactive sputtering deposition process of TiO[2] films
• Author/Editor: 草野英二 [著]
• Author Heading: 草野, 英二 クサノ, エイジ ( 01037580 )Authorities
• Alternative Title: 反応性スパッタリングによるTiO[2]形成プロセスの解析 ハンノウセイ スパッタリング ニ ヨル TiO2 ケイセイ プロセス ノ カイセキ
• Degree grantor/type: 東京大学
• Date Granted: 平成5年3月18日
• Date Granted (W3CDTF): 1993
• Dissertation Number: 乙第11190号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-94-P528
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000274040; http://id.ndl.go.jp/bib/000000274040
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

ABSTRACT

CONTENTS

I INTRODUCTION

I.I REACTIVE SPUTTERING

I.II BACKGROUND OF RESEARCH