A numerically controlled polishing approach for the fabrication of the silicon-on-insulator

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: A numerically controlled polishing approach for the fabrication of the silicon-on-insulator
• 著者・編者: 山田厚 [著]
• 著者標目: 山田, 厚 ヤマダ, アツシ
• 並列タイトル等: 数値制御平坦化によるSOI化技法に関する研究 スウチ セイギョ ヘイタンカ ニ ヨル SOIカ ギホウ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 筑波大学
• 授与年月日: 平成5年7月31日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1993
• 報告番号: 乙第907号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-95-Q479
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000287228; http://id.ndl.go.jp/bib/000000287228
• 整理区分コード: 213

目次

Table of Content

Abstract

Chapter I Silicon-on-Insulator

A.Introduction

B.Applications