A numerically controlled polishing approach for the fabrication of the silicon-on-insulator

• Material Type: 博士論文
• Title: A numerically controlled polishing approach for the fabrication of the silicon-on-insulator
• Author/Editor: 山田厚 [著]
• Author Heading: 山田, 厚 ヤマダ, アツシ
• Alternative Title: 数値制御平坦化によるSOI化技法に関する研究 スウチ セイギョ ヘイタンカ ニ ヨル SOIカ ギホウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 筑波大学
• Date Granted: 平成5年7月31日
• Date Granted (W3CDTF): 1993
• Dissertation Number: 乙第907号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-95-Q479
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000287228; http://id.ndl.go.jp/bib/000000287228
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

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Abstract

Chapter I Silicon-on-Insulator

A.Introduction

B.Applications