SiH[2]Cl[2]ガスソース分子線エピタキシー法における表面反応素過程の研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: SiH[2]Cl[2]ガスソース分子線エピタキシー法における表面反応素過程の研究
• タイトルよみ: SiH2Cl2 ガス ソース ブンシセン エピタキシーホウ ニ オケル ヒョウメン ハンノウ ソカテイ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 坂本仁志 [著]
• 著者標目: 坂本, 仁志 サカモト, ヒトシ
• 授与機関名: 東北大学
• 授与年月日: 平成7年7月12日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1995
• 報告番号: 乙第6740号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-95-W313
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000290718; http://id.ndl.go.jp/bib/000000290718
• 整理区分コード: 213

目次

目次

第一章 序論

1.1 本研究の背景

1.2 本研究の目的

引用文献