SiH[2]Cl[2]ガスソース分子線エピタキシー法における表面反応素過程の研究
図書館・個人送信サービスを利用する
収録元データベースで確認する
国立国会図書館デジタルコレクション
国立国会図書館の登録利用者（本登録）の方を対象とした、個人送信サービスで閲覧可能です。ただし、日本国外に居住している場合は、個人送信サービスを利用できません。
書店で探す
障害者向け資料で読む
目次
提供元：国立国会図書館デジタルコレクションヘルプページへのリンク
目次
p1
第一章 序論
p1
1.1 本研究の背景
p1
1.2 本研究の目的
p6
引用文献
p8
書店で探す
障害者向け資料で読む
- みなサーチ
- プレーンテキスト
みなサーチに登録・ログインで利用できます
書誌情報
この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。
- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- SiH2Cl2 ガス ソース ブンシセン エピタキシーホウ ニ オケル ヒョウメン ハンノウ ソカテイ ノ ケンキュウ
- 著者・編者
- 坂本仁志 [著]
- 著者標目
- 坂本, 仁志 サカモト, ヒトシ
- 授与機関名
- 東北大学
- 授与年月日
- 平成7年7月12日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1995
- 報告番号
- 乙第6740号
- 学位
- 博士 (工学)