SiH[2]Cl[2]ガスソース分子線エピタキシー法における表面反応素過程の研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
第一章 序論
p1
1.1 本研究の背景
p1
1.2 本研究の目的
p6
引用文献
p8
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- SiH2Cl2 ガス ソース ブンシセン エピタキシーホウ ニ オケル ヒョウメン ハンノウ ソカテイ ノ ケンキュウ
- 著者・編者
- 坂本仁志 [著]
- 著者標目
- 坂本, 仁志 サカモト, ヒトシ
- 授与機関名
- 東北大学
- 授与年月日
- 平成7年7月12日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1995
- 報告番号
- 乙第6740号
- 学位
- 博士 (工学)