SiH[2]Cl[2]ガスソース分子線エピタキシー法における表面反応素過程の研究
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Table of Contents
目次
p1
第一章 序論
p1
1.1 本研究の背景
p1
1.2 本研究の目的
p6
引用文献
p8
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- SiH2Cl2 ガス ソース ブンシセン エピタキシーホウ ニ オケル ヒョウメン ハンノウ ソカテイ ノ ケンキュウ
- Author/Editor
- 坂本仁志 [著]
- Author Heading
- 坂本, 仁志 サカモト, ヒトシ
- Degree grantor/type
- 東北大学
- Date Granted
- 平成7年7月12日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1995
- Dissertation Number
- 乙第6740号
- Degree Type
- 博士 (工学)