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博士論文

SiH[2]Cl[2]ガスソース分子線エピタキシー法における表面反応素過程の研究

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SiH[2]Cl[2]ガスソース分子線エピタキシー法における表面反応素過程の研究

Call No. (NDL)
UT51-95-W313
Bibliographic ID of National Diet Library
000000290718
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3106100
Material type
博士論文
Author
坂本仁志 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
東北大学,博士 (工学)
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Notes on use

Note (General):

博士論文

Table of Contents

Provided by:国立国会図書館デジタルコレクションLink to Help Page
  • 目次

    p1

  • 第一章 序論

    p1

  • 1.1 本研究の背景

    p1

  • 1.2 本研究の目的

    p6

  • 引用文献

    p8

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Bibliographic Record

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title Transcription
SiH2Cl2 ガス ソース ブンシセン エピタキシーホウ ニ オケル ヒョウメン ハンノウ ソカテイ ノ ケンキュウ
Author/Editor
坂本仁志 [著]
Author Heading
坂本, 仁志 サカモト, ヒトシ
Degree grantor/type
東北大学
Date Granted
平成7年7月12日
Date Granted (W3CDTF)
1995
Dissertation Number
乙第6740号
Degree Type
博士 (工学)