半導体プロセスを応用した電子ビーム描画および測長装置の高精度化の研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
第1章 序論
p3
1.1 超微細加工技術と半導体素子のトレンド
p3
1.2 電子ビーム応用装置の半導体超微細加工における位置付け
p3
1.3 論文の構成
p6
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ハンドウタイ プロセス オ オウヨウシタ デンシ ビーム ビョウガ オヨビ ソクチョウ ソウチ ノ コウセイドカ ノ ケンキュウ
- 著者・編者
- 中山義則 [著]
- 著者標目
- 中山, 義則 ナカヤマ, ヨシノリ
- 授与機関名
- 大阪大学
- 授与年月日
- 平成8年1月30日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1996
- 報告番号
- 乙第6819号
- 学位
- 博士 (工学)