半導体プロセスを応用した電子ビーム描画および測長装置の高精度化の研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 半導体プロセスを応用した電子ビーム描画および測長装置の高精度化の研究
• Title Transcription: ハンドウタイ プロセス オ オウヨウシタ デンシ ビーム ビョウガ オヨビ ソクチョウ ソウチ ノ コウセイドカ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 中山義則 [著]
• Author Heading: 中山, 義則 ナカヤマ, ヨシノリ
• Degree grantor/type: 大阪大学
• Date Granted: 平成8年1月30日
• Date Granted (W3CDTF): 1996
• Dissertation Number: 乙第6819号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-96-E291
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000294894; http://id.ndl.go.jp/bib/000000294894
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 超微細加工技術と半導体素子のトレンド

1.2 電子ビーム応用装置の半導体超微細加工における位置付け

1.3 論文の構成