半導体プロセス用高周波励起プラズマの精密制御に関する研究
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第1章 序論
p1
1.1 LSI技術の発展
p1
1.2 反応生成物の高速除去
p3
1.3 プロセス温度の低温化
p4
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ハンドウタイ プロセスヨウ コウシュウハ レイキ プラズマ ノ セイミツ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 平山昌樹 [著]
- 著者標目
- 平山, 昌樹 ヒラヤマ, マサキ
- 授与機関名
- 東北大学
- 授与年月日
- 平成9年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1997
- 報告番号
- 甲第5996号
- 学位
- 博士 (工学)