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博士論文

半導体プロセス用高周波励起プラズマの精密制御に関する研究

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半導体プロセス用高周波励起プラズマの精密制御に関する研究

Call No. (NDL)
UT51-97-E234
Bibliographic ID of National Diet Library
000000307029
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3121838
Material type
博士論文
Author
平山昌樹 [著]
Publisher
-
Date granted
平成9年3月25日
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Degree grantor and degree
東北大学,博士 (工学)
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博士論文

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Table of Contents

Provided by：国立国会図書館デジタルコレクション

  • 目次

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 LSI技術の発展

    p1

  • 1.2 反応生成物の高速除去

    p3

  • 1.3 プロセス温度の低温化

    p4

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title
半導体プロセス用高周波励起プラズマの精密制御に関する研究
Title Transcription
ハンドウタイ プロセスヨウ コウシュウハ レイキ プラズマ ノ セイミツ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
Author/Editor
平山昌樹 [著]
Author Heading
平山, 昌樹 ヒラヤマ, マサキ
Degree Grantor
東北大学
Date Granted
平成9年3月25日
Date Granted (W3CDTF)
1997
Dissertation Number
甲第5996号
Degree Type
博士 (工学)