ECRプラズマ励起化学気相体積法によるシリコン系化合物薄膜の低温堆積
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p3
第1章 序論
p1
1.1 ECRプラズマCVD法の背景
p2
1.2 研究の概説､目的
p5
1.3 論文の構成
p7
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ECR プラズマ レイキ カガク キソウ タイセキホウ ニ ヨル シリコンケイ カゴウブツ ハクマク ノ テイオン タイセキ
- 著者・編者
- 佐野慶一郎 [著]
- 著者標目
- 佐野, 慶一郎 サノ, ケイイチロウ
- 授与機関名
- 静岡大学
- 授与年月日
- 平成9年3月22日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1997
- 報告番号
- 甲第151号
- 学位
- 博士 (工学)