ECRプラズマ励起化学気相体積法によるシリコン系化合物薄膜の低温堆積
Available with Digitized Contents Transmission Service
Find on the publisher's website
国立国会図書館デジタルコレクション
Available for viewing via the Digitized Contents Transmission Service for Individuals to official registered users of the NDL, who resides in Japan.
Search by Bookstore
Read this material in an accessible format.
Table of Contents
目次
p3
第1章 序論
p1
1.1 ECRプラズマCVD法の背景
p2
1.2 研究の概説､目的
p5
1.3 論文の構成
p7
Search by Bookstore
Read in Disability Resources
- Mina Search
- プレーンテキスト
Registered users of Mina Search can download or stream this content.
Bibliographic Record
You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.
- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ECR プラズマ レイキ カガク キソウ タイセキホウ ニ ヨル シリコンケイ カゴウブツ ハクマク ノ テイオン タイセキ
- Author/Editor
- 佐野慶一郎 [著]
- Author Heading
- 佐野, 慶一郎 サノ, ケイイチロウ
- Degree grantor/type
- 静岡大学
- Date Granted
- 平成9年3月22日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1997
- Dissertation Number
- 甲第151号
- Degree Type
- 博士 (工学)