博士論文

ECRプラズマ励起化学気相体積法によるシリコン系化合物薄膜の低温堆積

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ECRプラズマ励起化学気相体積法によるシリコン系化合物薄膜の低温堆積

Call No. (NDL)
UT51-97-L91
Bibliographic ID of National Diet Library
000000310100
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3124910
Material type
博士論文
Author
佐野慶一郎 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
静岡大学,博士 (工学)
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博士論文

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Table of Contents

  • 目次

    p3

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 ECRプラズマCVD法の背景

    p2

  • 1.2 研究の概説､目的

    p5

  • 1.3 論文の構成

    p7

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title
ECRプラズマ励起化学気相体積法によるシリコン系化合物薄膜の低温堆積
Title Transcription
ECR プラズマ レイキ カガク キソウ タイセキホウ ニ ヨル シリコンケイ カゴウブツ ハクマク ノ テイオン タイセキ
Author/Editor
佐野慶一郎 [著]
Author Heading
佐野, 慶一郎 サノ, ケイイチロウ
Degree grantor/type
静岡大学
Date Granted
平成9年3月22日
Date Granted (W3CDTF)
1997
Dissertation Number
甲第151号
Degree Type
博士 (工学)