活性種フラックス制御プロセスの開発

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 活性種フラックス制御プロセスの開発
• タイトルよみ: カッセイシュ フラックス セイギョ プロセス ノ カイハツ
• 著者・編者: 辻直人 [著]
• 著者標目: 辻, 直人 ツジ, ナオト
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成8年3月29日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1996
• 報告番号: 甲第11873号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-97-Q433
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000312602; http://id.ndl.go.jp/bib/000000312602
• 整理区分コード: 213

目次

目次

第1章 序論

1.1 本論文の背景

1.2 本論文の目的と構成

第2章 Hot-wire CVD法によるSi膜作成プロセスの開発