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Table of Contents
目次
第1章 序論
p1
1.1 本論文の背景
p1
1.2 本論文の目的と構成
p2
第2章 Hot-wire CVD法によるSi膜作成プロセスの開発
p3
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- プレーンテキスト
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title
- Title Transcription
- カッセイシュ フラックス セイギョ プロセス ノ カイハツ
- Author/Editor
- 辻直人 [著]
- Author Heading
- 辻, 直人 ツジ, ナオト
- Degree grantor/type
- 東京大学
- Date Granted
- 平成8年3月29日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1996
- Dissertation Number
- 甲第11873号
- Degree Type
- 博士 (工学)